Thiết bị thử Atlas Cell Shanghai Modern XD1/4ATLAS-TWAF

Thiết bị thử Atlas Cell Shanghai Modern XD1/4ATLAS-TWAF

Thương hiệu: Shanghai Modern
Model: XD1/4ATLAS-TWAF

Thiết bị thử Atlas Cell dùng để đánh giá lớp phủ dưới chênh lệch nhiệt độ và môi trường hóa chất theo phương pháp Atlas Cell.

  • Phương pháp thử theo NACE TM0174.
  • Áp dụng NACE TM0174-2002, ASTM D6943-2015 và ASTM C868.
  • Dải điều khiển nhiệt từ nhiệt độ phòng +5 đến 80 °C; dòng định mức 5,5 A.

Vạn Năng là đại diện độc quyền Shanghai Modern tại Việt Nam, cung cấp thiết bị chính hãng, tài liệu kỹ thuật và hỗ trợ lựa chọn cấu hình phù hợp.

Giải pháp Thiết bị thử Atlas Cell Shanghai Modern XD1/4ATLAS-TWAF

Thiết bị thử Atlas Cell Shanghai Modern XD1/4ATLAS-TWAF
Thiết bị thử Atlas Cell Shanghai Modern XD1/4ATLAS-TWAF

Tổng quan và nguyên lý hoạt động

Mã máy: XD1/4ATLAS-TWAF

Thiết bị thử atlas cell Shanghai Modern XD1/4ATLAS-TWAF là giải pháp dùng để đánh giá lớp phủ dưới chênh lệch nhiệt độ và môi trường hóa chất theo phương pháp Atlas Cell.

Trang sản phẩm chính hãng: Shanghai Modern.

Đặc điểm nổi bật và ứng dụng

  • Phương pháp thử áp dụng NACE TM0174.
  • Các tiêu chuẩn được viện dẫn gồm NACE TM0174-2002, ASTM D6943-2015 và ASTM C868.
  • Các thông số chính gồm kích thước, số vị trí thử và dải nhiệt độ.

Thiết bị phù hợp cho lớp phủ bảo vệ, vật liệu và hệ sơn dùng trong môi trường ăn mòn.

Thiết bị thử Atlas Cell Shanghai Modern XD1/4ATLAS-TWAF

Phép Atlas Cell là thử ngâm một mặt lớp phủ trong môi trường lỏng, mặt còn lại tiếp xúc với không khí. Phương pháp B của ASTM D6943-2015 được trang hãng viện dẫn để đánh giá đồng thời tác động môi trường hóa chất và chênh lệch nhiệt độ trên thành bồn hoặc ống không cách nhiệt.

Chuẩn bị mẫu và tiến hành thử

  1. Chọn tấm nền sắt hoặc thép không gỉ phù hợp, tẩy dầu và chà nhám trước khi phủ hệ sơn cần đánh giá.
  2. Lắp mẫu đã phủ vào bộ Atlas Cell; duy trì khoảng 2/3–3/4 phần lớp phủ tiếp xúc với môi trường thử, mặt còn lại tiếp xúc với không khí.
  3. Cài đặt nhiệt độ và thời gian thử phù hợp. Khí nén được đưa vào chất lỏng để tạo bọt, hỗ trợ đồng đều nhiệt độ và bổ sung oxy.
  4. Sau thời gian thử, đánh giá kích thước và mật độ khuyết tật trên bề mặt lớp phủ, đồng thời ghi lại thời gian đạt điểm kết thúc.

Yêu cầu cấp điện

  • Nguồn: AC 220 V, 50 Hz.
  • Dung lượng công tắc nguồn: 10 A.

Tiêu chuẩn, cấu hình và thông số kỹ thuật

Các tiêu chuẩn được viện dẫn gồm NACE TM0174— 2002, ASTM D6943— 2015, ASTM C868.

Thông số kỹ thuật

Mã máy XD1/4ATLAS-TWAF
Kích thước tổng thể 1200 × 450 × 800 mm (bộ điều khiển nhiệt); 200 × 200 × 10 mm (giá đỡ tấm thử). Thứ tự trục D/H/W giữa trang hãng và datasheet không thống nhất.
Dải điều khiển nhiệt độ Nhiệt độ phòng +5~80℃
Độ phân giải hiển thị nhiệt độ ±0.1℃
Độ chính xác điều khiển nhiệt độ ±1.5℃
Độ đồng đều nhiệt độ ±2℃
Dòng điện định mức 5.5A
Ghi chú: Có thể tùy chỉnh trạm thử

Cấu hình cung cấp và phụ kiện

Mã máy / loại XD1/4ATLAS-TWAF
Máy chính 1
Sơ đồ điện 1
Hướng dẫn sử dụng 1
Chứng nhận 1
Thiết bị thử Atlas Cell Shanghai Modern XD1/4ATLAS-TWAF

Công ty TNHH Thương Mại Dịch Vụ Thiết Bị Công Nghệ Vạn Năng

📍 Địa chỉ: 818 Trường Chinh, Phường Tân Sơn, Thành phố Hồ Chí Minh, Việt Nam

📞 SĐT – Zalo: 0903 991 335 (Ms. Hạnh – Giám Đốc Kinh Doanh)

✉️ Email: hienhanh@vannangvn.com

📚 Tài liệu kỹ thuật